作者：北京大学信息科学技术学院教授段晓辉　　ITO，即掺入锡氧化铟（IndiumTinOxide）。它是液晶显示器（LCD）、等离子显示器（PDP）、电致发光显示器（EL/OLED）、触摸屏（TouchPanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的半透明电极最常用的薄膜材料。

　　未来移动终端、可穿着设备、智能家电等产品，对触碰面板的具有强大市场需求，同时随着触控面板大尺寸化、低价化，以及传统ITO薄膜无法用作可倾斜应用于，导电性及透光率等本质问题容易解决等因素，众面板厂商争相开始研究ITO的替代品，还包括纳米银线、金属网格、纳米碳管以及石墨烯等材料。　　新材料技术应用于可以从智能手机的常用面板尺寸一路伸延到20英寸以上的设备，而且其阻值，延伸性，倾斜性皆高于ITO薄膜。

虽然，新材料技术在短时间内无法全面代替ITO薄膜，但是新材料技术具有极大的优势，而且从市场反应上来看，应用于新材料技术生产的薄膜产品所占到的比重在大幅提升。目前，石墨烯扔到正处于研发阶段，距离量产还有较远的距离。纳米碳管工业化量产技术仍未完备，其做成的薄膜产品导电性还无法超过普通ITO薄膜的水平。因而，从技术发展与市场应用于综合评价，金属网格与纳米银线技术将是近期新兴触控技术的两大主角。

　　金属网格（MetalMesh）技术利用银，铜等金属材料或者氧化物等更容易获得且价格低廉的原料，在PET等塑胶薄膜上压制所构成的导电金属网格图案。其理论的低于电阻值可超过0.1欧姆/平方英寸，而且就有较好的电磁干扰屏蔽效果。

但是受限于印刷制作的工艺水平，其所制得的触控感测器图样的金属线长较粗，一般来说小于5um，这样不会造成在高像素下（一般来说小于200ppi）莫瑞干预波纹非常明显。莫瑞干预指数码产品显示屏中像素，光学膜片以及触控导电的金属图案，在水平和横向方向上，规则偏移的像素和物体的细致规则图案重叠式略为有偏差，则不会经常出现的阻碍波纹图案。

由于莫瑞干预的不存在，金属网格技术做成的薄膜产品不限于在高分辨率智能手机，平板电脑等高分辨率的产品上，意味着限于于观测距离很远的显示器屏幕，例如台式一体机器，笔记本电脑，智能电视等。　　如果薄膜中金属网格图样的线宽需要大幅上升，则能有效地的减少金属网格技术中的莫瑞干预的问题，尤其是如果金属网格图样的线宽上升到1um左右，则该技术做成的薄膜某种程度可以配备在高分辨率的智能设备上。

目前韩国三星公司利用识线宽和图样化（Patterning）技术，将金属网格图样的线宽由原本的5um~6um，缩减到3um左右。然而，意欲将线宽大幅度削减并非易事，传统的压制印刷工艺无法满足要求，必须使用黄光制程工艺，制作成本不会大幅度减少，而且不会浪费原材料；过细的金属线宽易在外力断裂时脱落；网格的阻值增高，对下游的掌控IC芯片明确提出更高的灵敏度拒绝。因此，目前金属网格技术如何在降低成本的同时，符合多场景的下游应用于是一个难题，还须要整个产业链更进一步发展完备才讫。

　　纳米银线（SNW，silvernanowire）技术，是将纳米银线墨水材料涂抹在塑胶或者玻璃基板上，然后利用镭射光刻有技术，刻画做成具备纳米级别银线导电网络图案的半透明的导电薄膜。由于其类似的做成物理机制，纳米银线的线宽的直径十分小，大约为50nm，近大于1um，因而不不存在莫瑞干预的问题，可以应用于在各种尺寸的表明屏幕上。另外，由于线宽较小，银线技术做成的导电薄膜比起于金属网格技术做成的薄膜可以超过更高的透光率，例如3M公司使用微印压法做成的薄膜产品可以超过89%透光率。再度，纳米银线薄膜比起于金属网格薄膜具备较小的倾斜半径，且在倾斜时电阻变化率较小，应用于在具备曲面表明的设备，例如智能手表，手环等上的时候，更加具备优势。

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